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金相磨拋機是金屬材料檢測（cè）中用於製備光滑鏡麵樣品的設備，其工作原（yuán）理（lǐ）通過機械磨削與（yǔ）化學機械拋（pāo）光的協同作用，逐步（bù）去（qù）除表麵損傷並提升平整度，為顯微（wēi）觀察提供（gòng）清晰界（jiè）麵。以下是硬度計生產廠家為您總（zǒng）結的其核心工作原理的簡化說明：

1. 磨削階（jiē）段：粗加工去除表麵（miàn）缺陷

作用：消除樣品切割、熱處理或機械加工（gōng）產生（shēng）的表麵變形層、氧化層或裂紋，暴露真實組織結構。

原（yuán）理：

機械摩擦（cā）：樣品（pǐn）固定在載物盤上（shàng），通過旋轉或往複運動與覆蓋砂紙的磨盤接觸。硬度計生產廠家建議砂紙粒度從粗（如180#）到細（如1200#）逐步更換，利用磨料顆（kē）粒的切割作用去（qù）除表麵材料。

壓力控製：載物盤通過彈簧或氣動裝（zhuāng）置（zhì）施（shī）加可控壓力，確保樣品與磨盤均勻接觸，避（bì）免局部過磨（mó）導致組織失真。

冷（lěng）卻（què）潤滑：磨削過程中持續（xù）滴加（jiā）冷卻液（如水或油基液體），降低摩擦（cā）產生的熱量，防止樣品（pǐn）因高（gāo）溫發生相（xiàng）變或（huò）燒傷。

2. 拋光階段：精加工獲得鏡麵效果

作用：消除磨削痕跡，形成光滑無劃痕的表麵，提升顯微成像的（de）清晰（xī）度。

原理：

化學機械拋光（guāng）（CMP）：拋光盤覆蓋（gài）柔軟織物（如絲綢、呢絨），滴加含微米（mǐ）級氧化鋁/二氧化矽顆粒的拋（pāo）光液。拋光顆粒在機械摩擦與化學腐蝕（shí）的雙重作（zuò）用（yòng）下，微切削樣品表麵，同時拋光液中（zhōng）的化學成分（如過氧化氫）軟化金屬（shǔ），加速材料去除。

無損加（jiā）工：通過調整拋光壓力（通常（cháng）0.5-5N）和轉速（50-300rpm），實現低應力（lì）拋光，避免引入新的表麵損傷。

3. 自動（dòng）化控製：準確保障製備質量

現代金（jīn）相磨拋機集成（chéng）壓力傳感器、轉速調節和定時功能，可預設磨削/拋光時間、壓力（lì）曲線（xiàn），確保不同材料（如鋼（gāng）、鋁（lǚ）、鈦合（hé）金）的（de）製備工藝重複性，大幅提（tí）升效率與（yǔ）一致性。

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